高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）

簡要描述(shu)：高分辨率納(na)(na)米壓印(yin)(yin)模(mo)板（Mold for nanoimprint lithography）采用*制造工藝，可把平面(mian)納(na)(na)米壓印(yin)(yin)拓展(zhan)到任意曲面(mian)。標準模(mo)板分為(wei)三(san)類：Quartz Molds, Silicon Molds, Polymer Molds of 2“、3“、4“。適(shi)用于Obducat，Suss，HP，EVG等多種型號(hao)的(de)納(na)(na)米壓印(yin)(yin)設備(bei)。

產(chan)品型(xing)號(hao)：石英/硅/聚合物模板
廠商性(xing)質：代理商
更(geng)新時間：2022-04-24
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詳情介(jie)紹(shao)

高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）技術參(can)數(shu)：

Deliveryofnanoimprinttemplatesinvariousmaterials（Si,SiNx,SiC,quartz,glass）.Maximumareaofthetemplates:4inchwithfeaturesizeof100nm.Forsmallerarea,minimumfeaturesizeof50nm.

提供各種材料(liao)的(de)納米壓印模板（硅，氮(dan)化硅，碳化硅，石(shi)英玻璃）。模板zui大尺(chi)寸(cun)：4英寸(cun)，特(te)征(zheng)尺(chi)寸(cun)為100nm。對于更小的(de)尺(chi)寸(cun)，zui小的(de)特(te)征(zheng)尺(chi)寸(cun)可(ke)以達到50nm。

DeliveryofEBLserviceforvariousstructureswiththefeaturesizedownto30nm.Substrates:anyconductingornon-conductingwafers.

提供zui低(di)30nm特征(zheng)尺寸的各種結構(gou)的電子束(shu)刻蝕服務。基板(ban)：任何導(dao)電或者非導(dao)電晶片。 ;

MicroandnanofabricationsforallkindsofnanostructuresinaSi,III-V,II-VIandpolymers.

各種納(na)米(mi)結構（硅，III-V族元素(su)(su)，II-VI族元素(su)(su)以及聚(ju)合(he)物）的微(wei)納(na)米(mi)加工。

高分辨率納米壓印模板（Mold for nanoimprint lithography）主要特點：

softmoldforthermalnanoimprint熱(re)壓(ya)印(yin)的軟模板

quartzmoldforUVnanoimprint紫外壓印的石英模板

siliconmoldforthermalnanoimprint熱壓(ya)印的硅模(mo)板

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