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iNano高(gao)精度(du)臺式納(na)米(mi)壓(ya)(ya)痕儀是一種(zhong)緊(jin)湊，用戶(hu)友好的(de)(de)納(na)米(mi)機(ji)械測量系統，設計用于(yu)硬(ying)涂層，薄膜和(he)少量材(cai)料(liao)。該系統旨在(zai)進行準(zhun)確，可重復的(de)(de)納(na)米(mi)級(ji)(ji)機(ji)械測試(shi)，包(bao)括壓(ya)(ya)痕，硬(ying)度(du)，劃痕和(he)通用納(na)米(mi)級(ji)(ji)測試(shi)。iNano具有很大的(de)(de)力(li)和(he)位移動態范(fan)圍，可以施加(jia)高(gao)達50mN的(de)(de)力(li)來測試(shi)薄膜和(he)軟材(cai)料(liao)。模塊化選(xuan)項可滿足多種(zhong)應用，包(bao)括材(cai)料(liao)特性圖(tu)和(he)高(gao)溫測試(shi)。

Nano Indenter® G200原位納米(mi)力學測(ce)(ce)(ce)試(shi)(shi)(shi)(shi)系統(tong)是一種(zhong)準確(que)，靈活(huo)，使(shi)用(yong)方(fang)便(bian)的納米(mi)級機械測(ce)(ce)(ce)試(shi)(shi)(shi)(shi)儀器(qi)。 G200 測(ce)(ce)(ce)量楊氏(shi)模(mo)量和(he)硬度，包括從納米(mi)到毫(hao)米(mi)的六個(ge)數量級的形變測(ce)(ce)(ce)量。 可(ke)測(ce)(ce)(ce)量聚合物，凝膠和(he)生物組織的復(fu)數模(mo)量以及薄金屬膜的蠕變響(xiang)應（應變率(lv)靈敏度）。 模(mo)塊化適用(yong)各種(zhong)應用(yong)：頻(pin)率(lv)特定測(ce)(ce)(ce)試(shi)(shi)(shi)(shi)，定量刮擦(ca)和(he)磨損測(ce)(ce)(ce)試(shi)(shi)(shi)(shi)，集成(cheng)的基于探頭的成(cheng)像，高溫納米(mi)壓(ya)痕測(ce)(ce)(ce)試(shi)(shi)(shi)(shi)，擴展(zhan)負載容(rong)量高達10N 和(he)自定義測(ce)(ce)(ce)試(shi)(shi)(shi)(shi)。

微納米壓痕儀（高溫(wen)）通過在真(zhen)空環境中單加熱jian端(duan)和樣品來測(ce)量(liang)高溫(wen)下的硬度(du)、模量(liang)和硬度(du)。INSEM®HT與掃(sao)描電子顯微鏡（SEM）和聚(ju)焦離(li)子束（FIB）或立真(zhen)空室兼容(rong)。附(fu)帶的InView軟件可以協助(zhu)開(kai)發新的實驗(yan)。科學出版(ban)物表明，InSEM HT結(jie)果(guo)與傳統大型高溫(wen)試(shi)驗(yan)數據吻合(he)。廣泛(fan)的溫(wen)度(du)范圍使InSEM HT成為(wei)開(kai)發研究材料的一個非常有價值的工(gong)具(ju)。

TNI LF-2000原(yuan)位自(zi)動(dong)納米(mi)操(cao)(cao)作系統(tong)是(shi)目前市面上基于SEM電(dian)鏡(jing)(jing)下使用的(de)高(gao)自(zi)動(dong)化(hua)程度(du)的(de)納米(mi)操(cao)(cao)作系統(tong)，也是(shi)一(yi)種(zhong)能夠在SEM電(dian)鏡(jing)(jing)下提(ti)供(gong)可重復定位、低漂移、閉環運動(dong)控制定位的(de)納米(mi)操(cao)(cao)作系統(tong)。LF-2000可以在原(yuan)位條件(jian)(jian)下進行(xing)力學(xue)(xue)測量(liang)(liang)、電(dian)學(xue)(xue)測試、納米(mi)物(wu)體拾取和裝(zhuang)配(pei)、制作微納米(mi)器件(jian)(jian)、納米(mi)電(dian)子器件(jian)(jian)電(dian)學(xue)(xue)測量(liang)(liang)等。

FT-NMT04納(na)米力學性能測(ce)試系統是一種多功能的(de)原位掃描電鏡/光纖納(na)米壓(ya)頭，能夠準確量(liang)化材(cai)料(liao)在微觀(guan)和納(na)米尺度(du)上的(de)力學行為。