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全自(zi)動(dong)步(bu)進重復(fu)式激光干涉光刻機 VIL 1000納(na)米(mi)光刻系統具有全自(zi)動(dong)光路(lu)重構、動(dong)態(tai)鎖相、高精(jing)度步(bu)進重復(fu)曝(pu)光等強大功 能。在放置旋(xuan)涂好光刻膠的(de)(de) 晶圓后，無需任何手動(dong)設置或調整(zheng)，我們的(de)(de)自(zi)動(dong)化(hua)系統可以在2 cm×2 cm的(de)(de)曝(pu)光區(qu)域內 （曝(pu)光區(qu)域還可定制其他尺寸及(ji)形狀(zhuang)）實現納(na)米(mi)尺度的(de)(de)一維光柵或二維陣列(lie)的(de)(de)加工。所(suo)制 備(bei)納(na)米(mi)結構的(de)(de)周期涵蓋240 nm到(dao)1500 nm的(de)(de)區(qu)間范(fan)圍，

VIL1000激光(guang)(guang)干(gan)涉光(guang)(guang)刻機 VIL系列(lie)納(na)米圖(tu)形(xing)系統(tong)（激光(guang)(guang)干(gan)涉光(guang)(guang)刻機）具有快速可(ke)重構(gou)光(guang)(guang)束傳輸(shu)、主(zhu)動圖(tu)形(xing)穩(wen)定和精確樣(yang)品定位等強大功能。該系統(tong)可(ke)以通過(guo)使用標(biao)準2cm×2cm正(zheng)方形(xing)或用戶定義形(xing)狀的(de)圖(tu)案(an)場進行重復(fu)曝光(guang)(guang)，在(zai)8英寸大面積上產生(sheng)各種納(na)米結構(gou)，例如(ru)1D光(guang)(guang)柵線和2D柱/孔圖(tu)案(an)，周期從240 nm到1500 nm。