聚合物筆印刷 

Polymer Pen Lithography (PPL)聚合物筆印刷是新發展起來的圖案化方法，結合了微接觸印刷(uCP)和蘸(zhan)筆印刷（DPL）的(de)優點(dian)，可以實現低消(xiao)耗、柔性的(de)分(fen)子印(yin)刷，可能使得納(na)米圖案化(hua)領(ling)域發生變革。 PPL是(shi)基于無懸(xuan)臂的掃描探針印刷技術，無需掩(yan)膜(mo)版(ban)即可在超平方厘米(mi)的區域內，利用彈性體的筆(bi)尖在多種材料和基底上(shang)打印10nm 到90nm 范圍內光斑尺寸的數字化圖案。
當鋒利的筆尖接觸到基質，墨水被傳遞到接觸點。PPL是一種可(ke)以直接拼(pin)寫的技(ji)術，相對于典型打印技(ji)術可(ke)以更好的地(di)生產復雜的(de)圖案，并且(qie)可以研究超材料結構和(he)器件的(de)光電性質(zhi)(zhi)。利用這種技術，可以制備由蛋(dan)白質(zhi)(zhi)等軟(ruan)物質(zhi)(zhi)組成(cheng)的(de)結構陣列，在生命科(ke)學領域有著潛在的(de)用途。

Park XE-PPL：

解耦(ou)無弓型(xing)彎曲掃描(miao)器，使(shi)聚合物筆陣(zhen)列均勻接觸，當我們(men)使(shi)用該系統掃描(miao)相當平整的硅晶(jing)圓時，100um和400um的運動范圍，曲率(lv)分別小于2nm和10nm。

電動二維傾斜平臺(tai)，聚(ju)合物筆陣列(lie)的電動調平，XY傾斜角度分(fen)辨(bian)率為5urad(0.0003°),XY傾(qing)斜(xie)角度(du)范圍為±3度(du)。

掃描(miao)(miao)結果可以減少依賴掃描(miao)(miao)位置，無需軟件處(chu)理

提(ti)供寬廣(guang)的光學視圖，分辨率<1um,可顯(xian)示(shi)1mm×0.75mm視圖且(qie)可以移動1cm×1cm,所(suo)以(yi)(yi)可以(yi)(yi)監測(ce)所(suo)有筆(bi)陣列區(qu)域

Z軸(zhou)的長(chang)移(yi)動范圍 (25um)，可以更好(hao)的(de)控制(zhi)接觸力(li)，而且可制(zhi)作(zuo)圖(tu)案的(de)尺寸(cun)范(fan)圍也很大（50nm-25un）

聚合物筆印刷應用

掃(sao)描(miao)探針(zhen)嵌段(duan)共(gong)聚物印刷 (SPBCL)

光(guang)束(shu)筆印刷 (BPL)

硬尖軟(ruan)彈簧印刷(shua) (HSL)

多(duo)重模式(shi)的蛋白質陣列

材料科學與技術;納米粒子(zi)圖(tu)案化，多重納米粒子(zi)陣列(lie)，集成電路

生物和(he)藥(yao)物學(xue)：蛋白質，抗體和(he)DNA納(na)米陣列，可(ke)用于(yu)藥物(wu)篩選，醫(yi)學(xue)診斷，生(sheng)物(wu)傳感器(qi)和(he)生(sheng)物(wu)芯(xin)片的研究(jiu)